萬　　雄彦　日立マクセル株式会社　筑波研究所　主管研究員
綱島　　滋　名古屋大学　工学部　電子工学専攻
中沖　有克　ソニー株式会社　開発本部　メディアラボラトリ
金子　秀彦　ソニー株式会社　ギガバイト研究所
庄野　敬二　株式会社富士通研究所　光ディスクメディア研究部
高橋　　明　シャープ株式会社　光ディスク開発センター
虎澤　研示　三洋電機株式会社　研究開発本部
粟野　博之　日立マクセル株式会社　筑波研究所　主任研究員
仲谷　栄伸　電気通信大学　情報工学科　助教授
白鳥　　力　キヤノン株式会社　中央研究所　メモリ研究部
小林　　正　三重大学　物理工学科　助教授
今村　修武　東ソー株式会社　東京研究センター　顧問
伊藤　彰義　日本大学　理工学部　電子工学科　教授
岩田　　聡　名古屋大学　工学部　電子工学専攻
片山　博之　シャープ株式会社　基盤技術研究所

内容項目

第１章　光磁気技術の流れと高密度化
　１　現状技術
　２　将来動向

第２章　高密度化基礎技術
　１節　多層光磁気膜の基礎物性
　２節　光変調と磁界変調記録方式
　　１　記録原理と記録方式
　　２　光変調記録と記録補償技術
　　３　パルス磁界変調方式
　　４　ダイレクトオーバーライト技術
　　５　将来技術の可能性－超高密度化－

第３章　磁気超解再生
　１節　磁気超解再生の原理と方式
　　１　原理の概要
　　２　方式
　　　2.1　FAD
　　　2.2　RAD
　　　2.3　CAD
　２節　DRAD方式とGIGAMOディスク
　　１　3.5インチMOディスク
　　２　静磁結合型CAD媒体
　　３　再生補助層による解像度向上
　　４　AS-MOディスクの構造
　　５　光パルス磁界変調記録
　３節　CAD方式とAS-MOディスク
　　１　CAD方式の原理
　　２　静磁結合型CAD媒体
　　３　再生補助層による解像度向上
　　４　AS-MOディスクの構造
　　５　光パルス磁界変調記録
　　６　ランド／グルーブ記録
　　７　片側ウォーブルアドレス
　　８　NRZIプラス符号変調
　　９　長短マークによる再生パワー制御
　　10　動作マージン
　４節　iDディスク～デジタルカメラ用小型MO
　　１　開発の背景
　　２　IDディスクの概要と特長

第４章　磁区による増幅再生
　１節　磁区拡大再生原理（ディスクによる信号増幅）：MAMMOS
　　１　従来媒体、磁気超解像媒体との比較
　　２　各種MAMMOS媒体の記録再生特性
　　３　極微少磁区拡大再生への挑戦
　　４　MAMMOSの将来展開
　２節　磁区拡大再生のコンピュータシミュレーション
　３節　磁壁移動再生(DWDD)技術
　　１　DWDDの動作原理
　　２　DWDDによる再生信号の特徴
　　３　ゴースト信号の抑制
　　４　狭トラックピッチ化
　４節　磁壁移動再生のコンピュータシミュレーション
　　１　パラメータとfront processの開始
　　２　front processにおける磁壁移動速度
　　３　rear process

第５章　今後の高密度化技術
　１節　SILレンズを用いた近接場MO記録
　２節　多値再生技術
　３節　青色レーザ対応記録材料
　　１　短波長化による記録密度の向上とその課題
　　２　希土類-遷移金属アモルファス材料
　　３　多層膜・人工格子材料
　　４　規則合金材料
　　５　酸化物材料

第６章　磁気再生型デバイス
　１　光磁気記録と磁気記録の融合への動き
　２　光記録・磁気再生方式
　３　光アシスト磁気記録方式
　４　装置化への展望